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產(chǎn)品中心
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產(chǎn)品名稱】1200℃回轉(zhuǎn)可傾管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區(qū)】300mm 【額定溫度】1200℃ 【電源電壓】AC220V/50Hz 【控溫精度】±1℃ 【應(yīng)用領(lǐng)域】1200℃回轉(zhuǎn)可傾管式爐額定工作溫度1100℃，主要用于實(shí)驗(yàn)室粉末物料的高溫?zé)崽幚恚稍谡婵栈蛘弑Ｗo(hù)氣氛下使用，電驅(qū)動(dòng)爐管可旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可調(diào)，回轉(zhuǎn)燒結(jié)物料會(huì)非常均勻的受熱；底部裝有電動(dòng)升降裝置，可使
【產(chǎn)品名稱】1200℃回轉(zhuǎn)管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區(qū)】300mm 【額定溫度】1200℃ 【電源電壓】AC220V/50Hz 【控溫精度】±1℃ 【應(yīng)用領(lǐng)域】1200℃回轉(zhuǎn)管式爐應(yīng)用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)等行業(yè)實(shí)驗(yàn)室高溫?zé)崽幚砉に嚕m用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導(dǎo)體材料等新材料領(lǐng)域。
【產(chǎn)品名稱】1400℃-CVD管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區(qū)】300mm 【額定溫度】1400℃ 【控溫精度】±1℃ 【應(yīng)用領(lǐng)域】化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中用來(lái)沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。
【產(chǎn)品名稱】1200℃-CVD梯度管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區(qū)】300mm+300mm 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應(yīng)用領(lǐng)域】化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來(lái)沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。
【產(chǎn)品名稱】1700℃-CVD管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區(qū)】300mm 【額定溫度】1700℃ 【控溫精度】±1℃ 【應(yīng)用領(lǐng)域】化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來(lái)沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。
【產(chǎn)品名稱】1200℃-PECVD管式爐系統(tǒng) 【爐管尺寸】φ40--φ100mm 【加熱區(qū)】300mm/440mm 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應(yīng)用領(lǐng)域】PECVD系統(tǒng)（等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)）由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成。
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